planarization(平坦化;平面化):指把表面(尤其是半导体晶圆、薄膜或材料层)处理得更平整、更接近平面的过程,以便后续工艺(如光刻、沉积、互连)能更稳定、更精确地进行。常见于微电子制造中,如 CMP(化学机械抛光)平坦化。
(注:在不同学科里也可泛指“使之变平/变成平面”的处理。)
/ˌplænərəˈzeɪʃən/
Planarization helps create a smooth surface for the next layer.
平坦化有助于为下一层形成光滑的表面。
After several deposition steps, the wafer required planarization to ensure accurate lithography and reliable connections.
经过多次沉积步骤后,晶圆需要进行平坦化,以确保光刻精度和连接的可靠性。
来自 planar(“平面的”)+ -ization(表示“使成为……的过程/行为”)。其中 planar 与拉丁语 planus(“平的”)同源,因此 planarization 字面意思就是“使之变平的过程”。
该词更常见于工程与科学写作而非小说诗歌;在以下经典教材/专著中经常出现(多与微电子制造相关):